外延炉一览
• 筒式外延炉MT7700、MT7811K
• RF平板式外延炉
• 单片式外延炉
• LPE3061&LPE2061 外延炉
MT系列外延炉性能
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单片式外延炉性能
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RF平板式外延炉性能
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• 良好的表面质量和无滑移线
• 炉内厚度均匀性±5%
• 炉内电阻均匀性±5%
• 过渡区窄
• 减压外延
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• 良好的厚度和电阻率均匀性
• 超强的加工能力
• 薄外延加工能力
• 8英寸外延片加工能力
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• 高产出
• 过渡区窄
• 良好的厚度和电阻率均匀性
• 大尺寸和双腔体设计
• 厚外延加工能力
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外延设备一览
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![](/uploadimage/Upload/202210/20221027160726DB580.jpg)
Centura机台
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![](/uploadimage/Upload/201208/20120828133727AC1F1.jpg)
CSD
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![](/uploadimage/Upload/201208/2012082813390552AFC.jpg)
LPE 3061
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![](/uploadimage/Upload/201602/2016020112055382AEC.jpg)
ASM E2000
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外延测试设备
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公司具有一套完备先进的外延表征设备,以确保外延片的质量达到客户的要求。
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![](/uploadimage/Upload/201601/20160129200217A5052.png)
MCV530
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![](/uploadimage/Upload/201602/201602011507439ABE1.jpg)
SSM495Hg-Probe CV System
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![](/uploadimage/Upload/201602/20160201150750B8C70.jpg)
CDE 4-Point Probe
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![](/uploadimage/Upload/201602/201602011508007D83F.jpg)
Surface scan SP1
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![](/uploadimage/Upload/201602/20160201150806C7792.jpg)
QS2200M Accent FTIR
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![](/uploadimage/Upload/201602/201602011508167AFDC.jpg)
ADE 9300
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![](http://www.simgui.com.cn/UploadFile/201010281737320FC61.jpg)
SSM SRP 2000
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![](http://www.simgui.com.cn/UploadFile/20101028173747F3930.jpg)
Agilent ICP MS7500CS
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![](http://www.simgui.com.cn/images/product18.jpg)
OLYMPUS MX50
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外延辅助设备
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日产130吨的超纯水系统。所产纯水电阻率达18.2MΩ,颗粒度和TOC含量极低,达到 国内领先水平。
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美国Verteq公司的清洗设备。结合了超稀化学溶液和先进的兆声清洗技术,可高效 去除晶片表面的颗粒、痕量金属和有
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新傲科技采用SIMOX,BONDING,SIMBOND和SSS四种工艺,利用先进设备来制备SOI材料,以确保圆片能够达到国际半导体标准,并能够满足当今世界主流IC生产线的要求。 依靠强大而持续的技术支持,整合国产化衬底片良好的性价比以及强大而灵活的加工能力优势,向客户提供专业化的外延服务。